POLYMER ETCHANT AND METHOD OF USING SAME

发明申请

US20130207031A1 POLYMER ETCHANT AND METHOD OF USING SAME 有权

标题翻译：聚合物蚀刻剂及其使用方法

摘要：

Provided is a composition for etching polymeric materials comprising an aqueous solution including an alkali metal salt and glycine.

摘要（中）：

提供了一种用于蚀刻聚合材料的组合物，其包含含有碱金属盐和甘氨酸的水溶液。

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IPC分类:

C	化学；冶金
C09	染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09K	不包含在其他类目中的各种应用材料；不包含在其他类目中的材料的各种应用
C09K13/00	蚀刻，表面光亮或浸蚀组合物
C09K13/02	.含一种碱金属的氢氧化物