发明申请
US20130344438A1 PHOTOACID GENERATOR, PHOTORESIST, COATED SUBSTRATE, AND METHOD OF FORMING AN ELECTRONIC DEVICE
有权
光电发生器，光电元件，涂覆基板和形成电子器件的方法
- 专利标题： PHOTOACID GENERATOR, PHOTORESIST, COATED SUBSTRATE, AND METHOD OF FORMING AN ELECTRONIC DEVICE
- 专利标题（中）： 光电发生器，光电元件，涂覆基板和形成电子器件的方法
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申请号： US13925926申请日： 2013-06-25
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公开(公告)号： US20130344438A1公开(公告)日： 2013-12-26
- 发明人: Emad AQAD , Irvinder KAUR , Cong LIU , Cheng-bai XU , Mingqi LI , Gregory P. PROKOPOWICZ
- 申请人： Emad AQAD , Irvinder KAUR , Cong LIU , Cheng-bai XU , Mingqi LI , Gregory P. PROKOPOWICZ
- 申请人地址： US MA Marlborough
- 专利权人： ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 当前专利权人： ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS LLC
- 当前专利权人地址： US MA Marlborough
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/20
摘要：
A photoacid generator has the formula (I): wherein R1, R2, R3, L1, L2, L3 X, Z+, a, b, c, d, p, q, and r, are defined herein. A photoresist comprises the photoacid generator, and a coated article comprises the photoresist. The photoresist can be used to form an electronic device.
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