发明申请
- 专利标题： Catalytic Growth of Josephson Junction Tunnel Barrier
- 专利标题（中）： 约瑟夫森结隧道屏障的催化生长
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申请号： US14137640申请日： 2013-12-20
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公开(公告)号： US20150179916A1公开(公告)日： 2015-06-25
- 发明人: Dipankar Pramanik , Frank Greer , Andrew Steinbach
- 申请人： Intermolecular, Inc.
- 申请人地址： US CA San Jose
- 专利权人： Intermolecular, Inc.
- 当前专利权人： Intermolecular, Inc.
- 当前专利权人地址： US CA San Jose
- 主分类号： H01L39/24
- IPC分类号： H01L39/24 ; C23C14/08 ; H01L39/22 ; C23C16/455 ; C23C14/34
摘要：
A tunnel barrier layer in a superconducting device, such as a Josephson junction, is made from catalytically grown silicon dioxide at a low temperature (
公开/授权文献
- US09082927B1 Catalytic growth of Josephson junction tunnel barrier 公开/授权日：2015-07-14
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IPC分类:
