发明申请
US20160052859A1 COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
有权
化合物，树脂，耐蚀组合物和用于生产耐腐蚀图案的方法
- 专利标题： COMPOUND, RESIN, RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN
- 专利标题（中）： 化合物，树脂，耐蚀组合物和用于生产耐腐蚀图案的方法
-
申请号： US14835344申请日： 2015-08-25
-
公开(公告)号： US20160052859A1公开(公告)日： 2016-02-25
- 发明人: Mitsuyoshi OCHIAI , Masahiko SHIMADA , Koji ICHIKAWA
- 申请人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人： SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2014-170798 20140825
- 主分类号： C07C69/75
- IPC分类号： C07C69/75 ; C08F122/10 ; C08F222/10 ; C08F220/22 ; G03F7/32 ; G03F7/038 ; G03F7/16 ; G03F7/20 ; G03F7/38 ; C08F220/68 ; C08F220/28
摘要：
A compound having a group represented by formula (Ia): wherein R1 and R2 each independently represent a C1 to C8 fluorinated alkyl group, ring W represents a C5 to C18 alicyclic hydrocarbon group that may have a substituent, and * represents a binding site.
公开/授权文献
信息查询
