- 专利标题： LAYER STRUCTURE COMPRISING A PHOTOPOLYMER LAYER AND A SUBSTRATE LAYER
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申请号： US15500293申请日： 2015-07-31
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公开(公告)号： US20170212420A1公开(公告)日： 2017-07-27
- 发明人: THOMAS FÄECKE , Friedrich-Karl BRUDER , Dennis HÕNEL , Günther WALZE , Thoms RÖLLE
- 申请人： Covestro Deutschland AG
- 优先权： EP14179506.2 20140801
- 国际申请： PCT/EP2015/067652 WO 20150731
- 主分类号： G03F7/035
- IPC分类号： G03F7/035 ; G03F7/027
摘要：
The invention relates to layered setup comprising a substrate layer and a photopolymer layer bonded thereto at least segmentally, wherein the substrate layer has an average retardation of ≦60 nm.
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