- 专利标题： SULFONIUM COMPOUND, RESIST COMPOSITION, AND PATTERNING PROCESS
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申请号： US15690846申请日： 2017-08-30
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公开(公告)号： US20180059543A1公开(公告)日： 2018-03-01
- 发明人: Ryo Mitsui , Takayuki Fujiwara , Ryosuke Taniguchi , Koji Hasegawa , Masaki Ohashi
- 申请人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2016-169793 20160831
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; C07C309/20 ; G03F7/16 ; G03F7/20 ; G03F7/38 ; G03F7/32
摘要：
A sulfonium salt containing an acid-eliminatable substituent group which is effective for improving contrast is highly soluble and uniformly dispersible. A resist composition comprising the sulfonium salt as photoacid generator forms a pattern with a high resolution, rectangularity, and reduced LWR.
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