- 专利标题： PREPARATION OF LANTHANIDE-CONTAINING PRECURSORS AND DEPOSITION OF LANTHANIDE-CONTAINING FILMS
-
申请号： US17666686申请日： 2022-02-08
-
公开(公告)号： US20230253200A1公开(公告)日： 2023-08-10
- 发明人: Daehyeon KIM , Junhyun SONG , Wontae NOH , Venkateswara R. PALLEM
- 申请人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude , American Air Liquide, Inc.
- 申请人地址： FR CA Paris
- 专利权人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude,American Air Liquide, Inc.
- 当前专利权人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude,American Air Liquide, Inc.
- 当前专利权人地址： FR CA Paris
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02 ; C07F5/00 ; C23C16/40
摘要：
The disclosed lanthanide precursor compounds include a cyclopentadienyl ligand having at least one aliphatic group as a substituent and at least one bidentate ligand. These precursors are suitable for depositing lanthanide containing films.
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
