- 专利标题： THE FORMATION OF CATALYST PT NANODOTS BY PULSED/SEQUENTIAL CVD OR ATOMIC LAYER DEPOSITION
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申请号： US18023785申请日： 2021-08-31
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公开(公告)号： US20230311098A1公开(公告)日： 2023-10-05
- 发明人: Takashi ONO , Takashi TERAMOTO , Christian DUSSARRAT , Nicolas BLASCO , Quentin DEMARLY
- 申请人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour I'Etude et I'Exploitation des Procédés Georges Claude
- 申请人地址： FR Paris
- 专利权人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour I'Etude et I'Exploitation des Procédés Georges Claude
- 当前专利权人： L'Air Liquide, Société Anonyme pour I'Etude et I'Exploitation des Procédés Georges Claude
- 当前专利权人地址： FR Paris
- 国际申请： PCT/US2021/048328 2021.08.31
- 进入国家日期： 2023-02-28
- 主分类号： B01J23/42
- IPC分类号： B01J23/42 ; B01J37/14 ; B01J35/00 ; B01J37/02 ; B01J37/18 ; C23C16/14 ; B01J21/18 ; C23C16/455 ; C23C16/44
摘要：
The disclosure describes a method of depositing a plurality Ft metal containing nanodots on a catalyst carbon support structure by forming a vapor of Pt(PF3)4, exposing a surface of the catalyst support to the vapor of Pt(PF3)4, purging the surface of the catalyst support with a purge gas to remove the vapor of Pt(PF3)4, exposing the surface of the catalyst support to a second reactant in gaseous form, purging the surface of the catalyst support with a purge gas to remove the second reactant, and repeating these steps to form a plurality of the Pt metal containing nanodots.
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