发明授权
- 专利标题： Modified processing of positive photoresists
- 专利标题（中）： 正光致抗蚀剂的改性处理
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申请号： US639536申请日： 1975-12-10
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公开(公告)号： US4007047A公开(公告)日： 1977-02-08
- 发明人: Leon H. Kaplan , Steven M. Zimmerman
- 申请人： Leon H. Kaplan , Steven M. Zimmerman
- 申请人地址： NY Armonk
- 专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人： International Business Machines Corporation
- 当前专利权人地址： NY Armonk
- 主分类号： G03F7/022
- IPC分类号： G03F7/022 ; G03F7/08 ; G03C5/00
摘要：
Positive photoresist layers including a base soluble resin and a diazo ketone sensitizer are treated with hydrogen ion following initial exposure to achieve changes in the developed resist profile and/or development in a negative mode.
公开/授权文献
- US5618627A Water-repellent wallboard 公开/授权日：1997-04-08
信息查询
IPC分类:
