发明授权
- 专利标题： Photosensitive printing plate forming material having a novel matting layer composition
- 专利标题（中）： 具有新颖消光层组合物的感光印版形成材料
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申请号： US71414申请日： 1979-08-30
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公开(公告)号： US4238560A公开(公告)日： 1980-12-09
- 发明人: Yasuo Nakamura , Yoshio Okishi
- 申请人： Yasuo Nakamura , Yoshio Okishi
- 申请人地址： JPX Minami-ashigara
- 专利权人： Fuji Photo Film Co., Ltd.
- 当前专利权人： Fuji Photo Film Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX Minami-ashigara
- 优先权： JPX53-105883 19780830
- 主分类号： B41N1/08
- IPC分类号： B41N1/08 ; G03F7/00 ; G03F7/115 ; G03C1/76 ; G03F7/02
摘要：
A photosensitive printing plate forming material having on its surface a matting layer composed of a resin and a fine particulate material dispersed therein, said resin being at least one member selected from rosin and rosin esters.
公开/授权文献
- US5932283A Method for fabricating SiO.sub.2 film 公开/授权日：1999-08-03
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