发明授权
- 专利标题： Compositions for polishing silicon and germanium
- 专利标题（中）： 用于抛光硅和锗的组合物
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申请号： US869402申请日： 1978-01-16
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公开(公告)号： US4260396A公开(公告)日： 1981-04-07
- 发明人: Rimantas Glemza
- 申请人： Rimantas Glemza
- 申请人地址： NY New York
- 专利权人： W. R. Grace & Co.
- 当前专利权人： W. R. Grace & Co.
- 当前专利权人地址： NY New York
- 主分类号： C09K3/14
- IPC分类号： C09K3/14 ; H01L21/304 ; H01L21/306
摘要：
A composition for polishing silicon and germanium comprises a synthetic amorphous silica polishing agent and a suspending agent selected from the group consisting of water-soluble carboxypolymethylene gums and xanthum gums. The composition may be used for polishing in the form of an aqueous alkaline slurry.
公开/授权文献
- US5826901A Airbag system for vehicle 公开/授权日：1998-10-27
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