发明授权
- 专利标题： Method of depositing an abrasive layer
- 专利标题（中）： 沉积研磨层的方法
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申请号： US48161申请日： 1979-06-13
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公开(公告)号： US4260647A公开(公告)日： 1981-04-07
- 发明人: Chih C. Wang , Ronald F. Bates
- 申请人： Chih C. Wang , Ronald F. Bates
- 申请人地址： NY New York
- 专利权人： RCA Corporation
- 当前专利权人： RCA Corporation
- 当前专利权人地址： NY New York
- 主分类号： C23C16/509
- IPC分类号： C23C16/509 ; H01G4/14 ; B05D3/06
摘要：
In a method for the glow discharge deposition of an amorphous, continuous layer from an organosilane and oxygen where the deposition is interrupted, wherein a glow discharge in oxygen is employed prior to resumption of glow discharge layer deposition.
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