发明授权
- 专利标题： Positive radiation sensitive resist terpolymers
- 专利标题（中）： 正辐射敏感抗蚀剂三元共聚物
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申请号： US244104申请日： 1981-03-16
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公开(公告)号： US4355094A公开(公告)日： 1982-10-19
- 发明人: Thomas R. Pampalone , Kurt B. Kilichowski
- 申请人： Thomas R. Pampalone , Kurt B. Kilichowski
- 申请人地址： NY New York
- 专利权人： RCA Corporation
- 当前专利权人： RCA Corporation
- 当前专利权人地址： NY New York
- 主分类号： C08G75/22
- IPC分类号： C08G75/22 ; G03F7/039 ; G03C1/00 ; B05D3/06 ; C23F1/00
摘要：
This invention relates to novel terpolymers of 3-methylcyclopentene, an omega alkynoic acid and sulfur dioxide. Positive radiation sensitive films prepared from the subject terpolymers adhere well to the substrate, demonstrate resistance to cracking and erosion during development and possess excellent edge definition.
公开/授权文献
- US4862656A Security posts 公开/授权日：1989-09-05
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