发明授权
US4539285A Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for
photolithography
失效
具有两种用于光刻的丙烯酸聚合物的感光负性重氮组合物
- 专利标题： Photosensitive negative diazo composition with two acrylic polymers for photolithography
- 专利标题（中）： 具有两种用于光刻的丙烯酸聚合物的感光负性重氮组合物
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申请号： US589434申请日： 1984-03-14
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公开(公告)号： US4539285A公开(公告)日： 1985-09-03
- 发明人: Tulay Duyal , John E. Walls
- 申请人： Tulay Duyal , John E. Walls
- 申请人地址： NJ Somerville
- 专利权人： American Hoechst Corporation
- 当前专利权人： American Hoechst Corporation
- 当前专利权人地址： NJ Somerville
- 主分类号： G03F7/016
- IPC分类号： G03F7/016 ; G03F7/004 ; G03F7/021 ; G03F7/038 ; G03C1/60 ; G03F7/08
摘要：
An improved resin coated substrate is prepared by coating a suitable substrate, such as aluminum with a composition comprising a salt having the structure A-N.sub.2.sup.+ X.sup.- wherein A is an aromatic or heterocyclic residue and X is an anion of an acid; and a binder composition comprising both an acrylic polymer and an acid containing acrylic copolymer.
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