发明授权
- 专利标题： Multiple-substance alloy for targets of cathode sputtering apparatus
- 专利标题（中）： 用于阴极溅射装置靶的多种合金
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申请号： US921235申请日： 1986-10-20
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公开(公告)号： US4808373A公开(公告)日： 1989-02-28
- 发明人: Dieter Hoffman , Wolf-Dieter Munz , G. A. Hoist Siewert , Horst Dietrich
- 申请人： Dieter Hoffman , Wolf-Dieter Munz , G. A. Hoist Siewert , Horst Dietrich
- 申请人地址： DEX Cologne
- 专利权人： Leybold-Heraeus GmbH
- 当前专利权人： Leybold-Heraeus GmbH
- 当前专利权人地址： DEX Cologne
- 优先权： DEX3631830 19860919
- 主分类号： C22C5/02
- IPC分类号： C22C5/02 ; H01J37/34
摘要：
A multiple-substance alloy used as a target in a cathode sputtering apparatus, and having a gold content most preferably in the range of 94-98 percent by weight, is disclosed. The alloy further contains non-gold alloys of aluminum, copper and preferably an element of the group of Co, Ni, Ga, Ti, In, Cd, Sn, Fe and Pd.
公开/授权文献
- US2054415A Switch construction and arrangement 公开/授权日：1936-09-15
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