发明授权
US4816380A Water soluble contrast enhancement layer method of forming resist image
on semiconductor chip
失效
在半导体芯片上形成抗蚀剂图像的水溶性对比增强层法
- 专利标题： Water soluble contrast enhancement layer method of forming resist image on semiconductor chip
- 专利标题（中）： 在半导体芯片上形成抗蚀剂图像的水溶性对比增强层法
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申请号： US879653申请日： 1986-06-27
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公开(公告)号： US4816380A公开(公告)日： 1989-03-28
- 发明人: John B. Covington , Vic B. Marriott , Larry G. Venable , Peter Kim
- 申请人： John B. Covington , Vic B. Marriott , Larry G. Venable , Peter Kim
- 申请人地址： TX Dallas
- 专利权人： Texas Instruments Incorporated
- 当前专利权人： Texas Instruments Incorporated
- 当前专利权人地址： TX Dallas
- 主分类号： G03F7/095
- IPC分类号： G03F7/095 ; G03C1/00 ; G03F7/00 ; G03F7/004 ; G03F7/09 ; G03F7/11 ; G03F7/26 ; H01L21/027
摘要：
A water soluble contrast enhancement compound and composition, and a method of use thereof, are disclosed for improving sidewall profiles in photoresist patterning and developing. The compound consists of a 1-oxy-2-diazonaphthalene sulfonamide salt.
公开/授权文献
- US4161011A Ground distance relay employing phase comparator measurement 公开/授权日：1979-07-10
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