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    Irradiation of polyacrylate films in air
    4.
    发明授权
    Irradiation of polyacrylate films in air 失效
    聚丙烯酸酯薄膜在空气中的照射

    公开(公告)号：US4323591A

    公开(公告)日：1982-04-06

    申请号：US229328

    申请日：1981-01-29

    申请人： Larry A. Wendling ,  John B. Covington

    发明人： Larry A. Wendling ,  John B. Covington

    IPC分类号： C08F2/46 ,  B05D3/06

    CPC分类号： C08F2/46

    摘要： Polyacrylate materials having certain heterocyclic nuclei within the structure have been found to be readily and polymerizable by irradiation in air. Typically, polyacrylate materials are highly sensitive to the presence of oxygen and do not polymerize fully unless special precautions or conditions are undertaken.

    摘要翻译： 已经发现在结构内具有某些杂环核的聚丙烯酸酯材料通过在空气中照射容易且可聚合。 通常，聚丙烯酸酯材料对氧的存在高度敏感，除非进行特别的预防措施或条件，否则不能完全聚合。

    Deep UV photoresist with alkyl 2-diazo-1-ones as solubility modification agents
    5.
    发明授权
    Deep UV photoresist with alkyl 2-diazo-1-ones as solubility modification agents 失效
    具有2-重氮基-1-烷基的深UV光致抗蚀剂作为溶解度改性剂

    公开(公告)号：US4959293A

    公开(公告)日：1990-09-25

    申请号：US264335

    申请日：1988-10-28

    申请人： George Schwartzkopf ,  John B. Covington ,  Kathleen B. Gabriel

    发明人： George Schwartzkopf ,  John B. Covington ,  Kathleen B. Gabriel

    IPC分类号： G03F7/016 ,  G03F7/075

    CPC分类号： G03F7/0755 ,  G03F7/0163

    摘要： 2-diazo-1-ones are useful deep UV photoresist solubility modification agents exhibiting improved photosensitivity allowing shorter deep UV exposure times to achieve the same extent of photoreaction as with prior art solubility modification agents. The 2-diazo-1-one solubility modification agents when used as photoactive solubility modification components in photoresist compositions permit the photoresist compositions to act as either positive or negative photoresist compositions depending upon the developer employed, namely, as a positive resist when a metal ion containing developer is employed and as a negative resist when a metal ion free developer is employed.

    摘要翻译： 2-重氮-1-酮是有用的深UV光致抗蚀剂溶解度改进剂，其具有改善的光敏性，允许较短的深紫外线曝光时间，以达到与现有技术的溶解度改性剂相同程度的光反应。 当用作光致抗蚀剂组合物中的光活性溶解度改性组分时，2-重氮-1-一种溶解度改性剂允许光致抗蚀剂组合物作为正性或负性光致抗蚀剂组合物，取决于所用的显影剂，即当金属离子 当使用含金属离子的显影剂时，使用含氮显影剂和作为负性抗蚀剂。