发明授权
- 专利标题： Processing apparatus
- 专利标题（中）： 处理装置
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申请号： US188139申请日： 1988-04-26
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公开(公告)号： US4818326A公开(公告)日： 1989-04-04
- 发明人: Jiann Liu , Cecil J. Davis , Lee M. Loewenstein
- 申请人： Jiann Liu , Cecil J. Davis , Lee M. Loewenstein
- 申请人地址： TX Dallas
- 专利权人： Texas Instruments Incorporated
- 当前专利权人： Texas Instruments Incorporated
- 当前专利权人地址： TX Dallas
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00 ; B44C1/22 ; C03C15/00 ; C23F1/02
摘要：
A processing apparatus and method for providing a process module with a low pressure, low energy ion implanter and a remote microwave plasma generator and a source of thermal energy, which is adapted to receive wafers for processing in a low pressure carrier.
公开/授权文献
- US6136427A Glass panel assembly 公开/授权日：2000-10-24