发明授权
- 专利标题： Method for making silicon nitride powder
- 专利标题（中）： 制造氮化硅粉末的方法
-
申请号： US169426申请日： 1988-03-17
-
公开(公告)号： US4986972A公开(公告)日： 1991-01-22
- 发明人: Toshitsuga Ishii , Isao Imai , Akira Sano , Kouichi Sueyoshi
- 申请人： Toshitsuga Ishii , Isao Imai , Akira Sano , Kouichi Sueyoshi
- 申请人地址： JPX
- 专利权人： Toshiba Ceramics Co., Ltd.
- 当前专利权人： Toshiba Ceramics Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JPX
- 主分类号： C01B21/068
- IPC分类号： C01B21/068
摘要：
A mixture of silica powder and carbon powder is heated in a mixture of NH.sub.3 gas and C.sub.m H.sub.n gas. Only silica powder may be heated in a mixture of NH.sub.3 gas and C.sub.m H.sub.n gas.
公开/授权文献
信息查询
