发明授权
- 专利标题： Radiation-sensitive mixture
- 专利标题（中）： 辐射敏感混合物
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申请号： US422456申请日： 1989-10-17
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公开(公告)号： US5035979A公开(公告)日： 1991-07-30
- 发明人: Son Nguyen-Kim , Gerhard Hoffmann , Reinhold Schwalm
- 申请人： Son Nguyen-Kim , Gerhard Hoffmann , Reinhold Schwalm
- 申请人地址： DEX Ludwigshafen
- 专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人地址： DEX Ludwigshafen
- 优先权： DEX3837438 19881104
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/004 ; H01L21/027 ; H01L21/30
摘要：
The invention relates to a radiation-sensitive mixture essentially consisting of(a) a water-insoluble binder or binder mixture which is soluble in aqueous alkaline solutions,(b) a compound which upon irradiation forms a strong acid and(c) one or more organic compounds which inhibit the solubility of (a) in aqueous alkaline solutions,where the organic compound (c) is a malonic acid ester.This radiation-sensitive mixture may be used to prepare photoresists.
公开/授权文献
- US4496270A Chain cap for forming a stable load 公开/授权日：1985-01-29
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