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US5126164A Method of forming a thin polymeric film by plasma reaction under atmospheric pressure 失效
在大气压下通过等离子体反应形成薄聚合物膜的方法

Method of forming a thin polymeric film by plasma reaction under atmospheric pressure
摘要：
A process for forming a thin polymeric film is disclosed, which comprises introducing a mixture of an organic monomer gas and helium into a reaction vessel, producing a glow discharge plasma at atmospheric pressure and depositing the plasma on a substrate wherein the helium in the gas mixture is present in an amount higher than 90% by volume.
摘要（中）：

公开了一种用于形成薄聚合物膜的方法，其包括将有机单体气体和氦的混合物引入反应容器中，在大气压下产生辉光放电等离子体，并将等离子体沉积在基板上，其中气体混合物中的氦 以高于90％的量存在。

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