发明授权
- 专利标题： X-ray mask and its fabrication method
- 专利标题（中）： X射线掩模及其制造方法
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申请号： US427986申请日： 1995-04-24
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公开(公告)号： US5496667A公开(公告)日： 1996-03-05
- 发明人: Hideki Yabe , Kenji Marumoto , Nobuyuki Yoshioka
- 申请人： Hideki Yabe , Kenji Marumoto , Nobuyuki Yoshioka
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX4-147087 19920608
- 主分类号： C23C14/14
- IPC分类号： C23C14/14 ; C23C14/06 ; C23C14/34 ; G03F1/22 ; G03F1/54 ; G03F7/09 ; H01L21/027 ; H01L21/285 ; G03F9/00
摘要：
In order to provide an X-ray absorber low in the internal stress and suitable for forming a high accurate pattern and its fabrication method, an X-ray absorber for an X-ray mask is intended to contain tungsten and nitrogen, or tungsten, titanium and nitrogen, and to have an amorphous structure.
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