发明授权
- 专利标题： Exposure apparatus and reflection type mask to be used in the same
- 专利标题（中）： 曝光装置和反射型面罩一并使用
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申请号： US393676申请日： 1995-02-24
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公开(公告)号： US5549994A公开(公告)日： 1996-08-27
- 发明人: Yutaka Watanabe , Masami Hayashida
- 申请人： Yutaka Watanabe , Masami Hayashida
- 申请人地址： JPX Tokyo
- 专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人： Canon Kabushiki Kaisha
- 当前专利权人地址： JPX Tokyo
- 优先权： JPX6-031712 19940302
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00 ; G03F7/20 ; G03F9/00 ; G21K1/06 ; H01L21/027
摘要：
A reflection type mask includes a reflective portion having a multilayered film, a non-reflective portion having an absorbing material and being formed on the multilayered film, and a non-reflective portion being defined by destroying the multilayered film.
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