发明授权
- 专利标题： Method of forming resist film
- 专利标题（中）： 形成抗蚀剂膜的方法
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申请号： US09200742申请日： 1998-11-30
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公开(公告)号： US06300043B1公开(公告)日： 2001-10-09
- 发明人: Nobuo Konishi , Keizo Hirose
- 申请人： Nobuo Konishi , Keizo Hirose
- 优先权： JP9-352371 19971204
- 主分类号： G03F700
- IPC分类号： G03F700
摘要：
A method of forming a resist film comprises (a) forming a resist film on a substrate, and (b) removing a surface region of the resist film formed in the step (a) so as to decrease the thickness of the resist film.
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