发明授权
- 专利标题： Method and device for processing semiconductor material
- 专利标题（中）： 用于处理半导体材料的方法和装置
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申请号： US09410623申请日： 1999-10-01
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公开(公告)号： US06313013B1公开(公告)日： 2001-11-06
- 发明人: Dirk Flottmann , Gerhard Ast , Reinhard Wolf
- 申请人： Dirk Flottmann , Gerhard Ast , Reinhard Wolf
- 优先权： DE19847098 19981013
- 主分类号： H01L21322
- IPC分类号： H01L21322
摘要：
There are a device and method for protecting semiconductor material, wherein semiconductor material is processed on a surface of stabilized ice made from ultrapure water and particles of semiconductor material.
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