发明授权
- 专利标题： Radiation sensitive material and method for forming pattern
- 专利标题（中）： 辐射敏感材料及其形成方法
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申请号： US09438416申请日： 1999-11-12
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公开(公告)号： US06344304B1公开(公告)日： 2002-02-05
- 发明人: Satoshi Takechi , Makoto Takahashi , Yuko Kaimoto
- 申请人： Satoshi Takechi , Makoto Takahashi , Yuko Kaimoto
- 优先权： JP5-337434 19931228
- 主分类号： G03F7004
- IPC分类号： G03F7004
摘要：
A radiation sensitive composition comprising a copolymer having a structural unit of (me)acrylonitrile and a structural unit generating an alkali soluble group and a substance generating an acid by application of radiation.