Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same

发明授权

US06369181B1 Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same 有权

标题翻译：共聚物树脂及其制备方法和使用其的光致抗蚀剂

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专利标题： Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same
专利标题（中）： 共聚物树脂及其制备方法和使用其的光致抗蚀剂
申请号： US09222053

申请日： 1998-12-29
公开(公告)号： US06369181B1

公开(公告)日： 2002-04-09
发明人: Min Ho Jung , Jae Chang Jung , Cheol Kyu Bok , Ki Ho Baik
申请人： Min Ho Jung , Jae Chang Jung , Cheol Kyu Bok , Ki Ho Baik
优先权： KR97-77412 19971229
主分类号： C08F3208
IPC分类号： C08F3208

Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same

摘要：

The present invention relates to a copolymer resin for a photoresist used with far ultraviolet rays such as KrF or ArF. The copolymer is represented by the following formula III:

摘要（中）：

本发明涉及用于与诸如KrF或ArF的远紫外线一起使用的光刻胶的共聚物树脂。共聚物由下式III表示：

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