利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明授权
US06372699B1 Cleaning solution for electronic materials and method for using same 有权
电子材料清洗液及其使用方法

  • 专利标题： Cleaning solution for electronic materials and method for using same
  • 专利标题（中）： 电子材料清洗液及其使用方法
  • 申请号： US09215872
    申请日： 1998-12-18
  • 公开(公告)号： US06372699B1
    公开(公告)日： 2002-04-16
  • 发明人: Hiroshi Morita , Tetsuo Mizuniwa , Junichi Ida
  • 申请人： Hiroshi Morita , Tetsuo Mizuniwa , Junichi Ida
  • 优先权： JP9-353403 19971222; JP10-013938 19980127
  • 主分类号： C11D1310
  • IPC分类号： C11D1310
Cleaning solution for electronic materials and method for using same
摘要：
A cleaning solution for electronic materials contains dissolved oxygen gas at a concentration greater than atmospheric saturation concentration, 0.1-10,000 mg/liter of ammonia, and 0.1-10,000 mg/liter of hydrogen peroxide in water. Alternatively, the cleaning solution contains dissolved reducing agents, 0.1-10,000 mg/liter of ammonia, and 0.1-10,000 mg/liter of hydrogen peroxide in water. A method for making the cleaning solution of the present invention is provided. A method for cleaning electronic materials using the cleaning solution of the present invention is also provided.
摘要（中）：

用于电子材料的清洁溶液含有浓度大于大气饱和浓度的溶解氧气，0.1-10,000mg /升氨和0.1-10,000mg /升过氧化氢水溶液。 或者，清洁溶液含有溶解的还原剂，0.1-10,000mg /升氨和0.1-10,000mg /升过氧化氢在水中。 提供了制造本发明的清洗溶液的方法。 还提供了使用本发明的清洁溶液清洁电子材料的方法。

信息查询
Espacenet
0/0