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US06453005B2 SiO2-coated mirror substrate for EUV 有权
用于EUV的SiO2涂层镜面基板

  • 专利标题： SiO2-coated mirror substrate for EUV
  • 专利标题（中）： 用于EUV的SiO2涂层镜面基板
  • 申请号： US09756018
    申请日： 2001-01-05
  • 公开(公告)号： US06453005B2
    公开(公告)日： 2002-09-17
  • 发明人: Winfried Kaiser
  • 申请人： Winfried Kaiser
  • 主分类号： G21K102
  • IPC分类号： G21K102
SiO2-coated mirror substrate for EUV
摘要：
Mirror substrate consisting of crystal, especially silicon crystal, on which an amorphous layer, especially a quartz glass layer, is applied.
摘要（中）：

由晶体特别是硅晶体组成的镜面衬底，其上施加有非晶层，特别是石英玻璃层。

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