发明授权
- 专利标题： Amine compounds, resist compositions and patterning process
- 专利标题（中）： 胺化合物，抗蚀剂组合物和图案化工艺
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申请号： US10003288申请日： 2001-12-06
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公开(公告)号： US06743564B2公开(公告)日： 2004-06-01
- 发明人: Jun Hatakeyama , Tomohiro Kobayashi , Takeru Watanabe
- 申请人： Jun Hatakeyama , Tomohiro Kobayashi , Takeru Watanabe
- 优先权： JP2000-373316 20001207
- 主分类号： G03C173
- IPC分类号： G03C173
摘要：
Amine compounds having a cyano group are useful in resist compositions for preventing a resist film from thinning and also for enhancing the resolution and focus margin of resist.
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