发明授权
US06815875B2 Electron source having planar emission region and focusing structure
有权
具有平面发射区域和聚焦结构的电子源
- 专利标题： Electron source having planar emission region and focusing structure
- 专利标题（中）： 具有平面发射区域和聚焦结构的电子源
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申请号： US09795240申请日： 2001-02-27
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公开(公告)号： US06815875B2公开(公告)日： 2004-11-09
- 发明人: Huei-Pei Kuo , Henryk Birecki , Si-Ty Lam , Steven Louis Naberhuis
- 申请人： Huei-Pei Kuo , Henryk Birecki , Si-Ty Lam , Steven Louis Naberhuis
- 主分类号： H01J102
- IPC分类号： H01J102
摘要：
An electron source includes a planar emission region for generating an electron emission, and a focusing structure for focusing the electron emission into an electron beam.
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