发明授权
- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method
- 专利标题（中）： 平版印刷设备和器件制造方法
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申请号： US10618264申请日： 2003-07-14
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公开(公告)号： US06963391B2公开(公告)日： 2005-11-08
- 发明人: Jan Evert Van Der Werf , George Arie Jan Fockert , Hans Van Der Laan
- 申请人： Jan Evert Van Der Werf , George Arie Jan Fockert , Hans Van Der Laan
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
- 优先权： EP0225002 20020716
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; G03F9/00 ; H01L21/027 ; H01L21/68 ; G03B27/54 ; G01B11/00 ; G03B27/42
摘要：
A reflector alignment system uses an alignment beam propagating through a projection system that includes a mirror group to measure the apparent relative positions of two reference marks fixed to a reference frame on opposite sides of the projection system. Any movement of mirrors in the projection system will be detected as a shift in the apparent position of the reference marks.
公开/授权文献
- US20040189966A1 Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2004-09-30