发明授权
US06979819B2 Photoelectron emission microscope for wafer and reticle inspection
有权
光电子发射显微镜用于晶圆和掩模版检查
- 专利标题： Photoelectron emission microscope for wafer and reticle inspection
- 专利标题（中）： 光电子发射显微镜用于晶圆和掩模版检查
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申请号： US10017262申请日： 2001-12-14
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公开(公告)号： US06979819B2公开(公告)日： 2005-12-27
- 发明人: David Adler , Matthew Marcus
- 申请人： David Adler , Matthew Marcus
- 申请人地址： US CA Milpitas
- 专利权人： KLA-Tencor Technologies Corporation
- 当前专利权人： KLA-Tencor Technologies Corporation
- 当前专利权人地址： US CA Milpitas
- 代理机构： Okamoto & Benedicto LLP
- 主分类号： G01N23/227
- IPC分类号： G01N23/227 ; H01J37/285
摘要：
A method of inspecting and imaging substrates with an electron beam. The method can include a illuminating the substrate with a photon beam to cause photoemission of electrons. A low energy electron beam can be used to prevent or reduce positive charging of the substrate. Reflected electrons and/or emitted photoelectrons can be imaged to review or inspect the substrate.
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