发明授权
- 专利标题： Attenuating phase shift mask blank and photomask
- 专利标题（中）： 衰减相移掩模空白和光掩模
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申请号： US10655593申请日： 2003-09-05
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公开(公告)号： US07029803B2公开(公告)日： 2006-04-18
- 发明人: Hans Becker , Ute Buttgereit , Gunter Hess , Oliver Goetzberger , Frank Schmidt , Frank Sobel , Markus Renno , S. Jay Chey
- 申请人： Hans Becker , Ute Buttgereit , Gunter Hess , Oliver Goetzberger , Frank Schmidt , Frank Sobel , Markus Renno , S. Jay Chey
- 申请人地址： DE Mainz US NY Armonk
- 专利权人： Schott AG,IBM
- 当前专利权人： Schott AG,IBM
- 当前专利权人地址： DE Mainz US NY Armonk
- 代理机构： Millen, White, Zelano, Branigan, P.C.
- 主分类号： G01F9/00
- IPC分类号： G01F9/00
摘要：
The present invention relates to attenuating phase shift mask blanks for use in lithography, a method of fabricating such a mask blank.
公开/授权文献
- US20050053845A1 Attenuating phase shift mask blank and photomask 公开/授权日：2005-03-10
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