发明授权
- 专利标题： Pattern-forming material and method of forming pattern
- 专利标题（中）： 图案形成材料及形成图案的方法
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申请号： US10415272申请日： 2002-09-12
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公开(公告)号： US07041428B2公开(公告)日： 2006-05-09
- 发明人: Shinji Kishimura , Masayuki Endo , Masaru Sasago , Mitsuru Ueda , Tsuyohiko Fujigaya
- 申请人： Shinji Kishimura , Masayuki Endo , Masaru Sasago , Mitsuru Ueda , Tsuyohiko Fujigaya
- 申请人地址： JP Osaka
- 专利权人： Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
- 当前专利权人： Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Osaka
- 代理机构： McDermott Will & Emery LLP
- 优先权： JP2001-277589 20010913
- 国际申请： PCT/JP02/09381 WO 20020912
- 国际公布： WO03/025676 WO 20030327
- 主分类号： G03C1/73
- IPC分类号： G03C1/73 ; G03F7/39 ; G03F7/20 ; G03F7/30
摘要：
A pattern formation material of this invention contains a base polymer including a unit represented by Chemical Formula 1 and, and an acid generator:Chemical Formula 1: wherein R1 is a hydrogen atom, a chlorine atom, a fluorine atom, an alkyl group or an alkyl group including a fluorine atom; and R2 is a protecting group released by an acid.
公开/授权文献
- US20040029035A1 Pattern-forming material and method of forming pattern 公开/授权日：2004-02-12
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