发明授权
- 专利标题： Removable reticle window and support frame using magnetic force
- 专利标题（中）： 可移动的分划板窗和支撑架采用磁力
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申请号： US11166392申请日： 2005-06-27
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公开(公告)号： US07042554B2公开(公告)日： 2006-05-09
- 发明人: Daniel N. Galburt
- 申请人： Daniel N. Galburt
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Holding N.V.
- 当前专利权人： ASML Holding N.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Sterne, Kessler, Goldstein & Fox P.L.L.C.
- 主分类号： G03B27/58
- IPC分类号： G03B27/58 ; G03B27/62 ; G03F9/00
摘要：
An apparatus for maintaining an optical gap between a pellicle and a reticle in a photolithography system includes a frame defining first and second opposing surfaces, a reticle mated to the first opposing surface using magnetic coupling and a pellicle mated to the second opposing surface using magnetic coupling.
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