发明授权
- 专利标题： Vapor-deposited film
- 专利标题（中）： 蒸镀膜
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申请号： US10760483申请日： 2004-01-21
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公开(公告)号： US07112370B2公开(公告)日： 2006-09-26
- 发明人: Hiroshi Suzuki , Takeshi Kanetaka , Miki Oohashi , Noboru Sasaki , Takayuki Nakajima , Ryoji Ishii
- 申请人： Hiroshi Suzuki , Takeshi Kanetaka , Miki Oohashi , Noboru Sasaki , Takayuki Nakajima , Ryoji Ishii
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Toppan Printing Co., Ltd.
- 当前专利权人： Toppan Printing Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 优先权： JP2001-222717 20010724
- 主分类号： B32B18/00
- IPC分类号： B32B18/00 ; B32B27/00
摘要：
A vapor-deposited film having a substrate consisting essentially of a polymer material and a vapor-deposited layer consisting essentially of a ceramic, the substrate being subjected to plasma pre-treatment using a hollow anode plasma treatment device, prior to vapor deposition of the vapor-deposited layer.
公开/授权文献
- US20040166322A1 Vapor-deposited film 公开/授权日：2004-08-26
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