发明授权
- 专利标题： Ultraviolet blocking layer
- 专利标题（中）： 紫外阻挡层
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申请号： US10858352申请日： 2004-06-01
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公开(公告)号： US07157331B2公开(公告)日： 2007-01-02
- 发明人: Chien Hung Lu , Chin Ta Su
- 申请人： Chien Hung Lu , Chin Ta Su
- 申请人地址： TW Hsinchu
- 专利权人： Macronix International Co., Ltd.
- 当前专利权人： Macronix International Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： TW Hsinchu
- 代理机构： Haynes Beffel & Wolfeld LLP
- 代理商 Kenta Suzue
- 主分类号： H01L21/336
- IPC分类号： H01L21/336 ; H01L21/8234 ; H01L21/44 ; H01L31/0288 ; H01L29/80 ; H01L29/76
摘要：
Methods and apparatuses are disclosed relating to blocking ultraviolet electromagnetic radiation from a semiconductor. Ultraviolet electromagnetic radiation, such as ultraviolet electromagnetic radiation generated by a plasma process, which may otherwise damage a semiconductor can be blocked from one or more layers below an ultraviolet blocking layer.
公开/授权文献
- US20050275105A1 Ultraviolet blocking layer 公开/授权日：2005-12-15
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IPC分类:
