发明授权
US07173687B2 Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
有权
平版印刷设备，器件制造方法和由此制造的器件
- 专利标题： Lithographic apparatus, device manufacturing method, and device manufactured thereby
- 专利标题（中）： 平版印刷设备，器件制造方法和由此制造的器件
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申请号： US11273436申请日： 2005-11-15
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公开(公告)号： US07173687B2公开(公告)日： 2007-02-06
- 发明人: Arno Jan Bleeker , Jozef Petrus Henricus Benschop
- 申请人： Arno Jan Bleeker , Jozef Petrus Henricus Benschop
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Pillsbury Winthrop Shaw Pittman LLP
- 优先权： EP02258164 20021127
- 主分类号： G03B27/54
- IPC分类号： G03B27/54 ; G03B27/42 ; B41J2/47
摘要：
Apparatus and methods for compensating for the movement of a substrate in a lithographic apparatus during a pulse of radiation include providing an optical structure configured to move a patterned projection beam incident on the substrate in synchronism with the substrate.
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