利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明授权
US07211138B2 Hard film, method of forming the same and target for hard film formation 有权
硬膜，形成方法和硬膜形成的目标

Hard film, method of forming the same and target for hard film formation
摘要：
A hard film is formed of a material having composition indicated by a chemical formula: (TiaAlbVcSidBf) (C1−eNe), in which subscripts a, b, c, d, f and e indicate atomic ratios of Ti, Al, V, Si, B and N, respectively, and meet relational expressions: 0.02≦a≦0.5, 0.4
摘要（中）：

硬质膜由具有以下化学式表示的组成的材料形成：（Ti a a a B b） 其中下标a，b，c，d，f和e（C 1-e N e） 分别表示Ti，Al，V，Si，B和N的原子比，满足关系式：0.02 <= a <= 0.5,0.4

公开/授权文献
信息查询
Espacenet
0/0