发明授权
- 专利标题： Polymer, resist composition, and patterning process
- 专利标题（中）： 聚合物，抗蚀剂组合物和图案化工艺
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申请号： US11051721申请日： 2005-01-27
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公开(公告)号： US07241553B2公开(公告)日： 2007-07-10
- 发明人: Jun Hatakeyama , Yuji Harada , Yoshio Kawai , Masaru Sasago , Masayuki Endo , Shinji Kishimura , Kazuhiko Maeda , Haruhiko Komoriya , Kazuhiro Yamanaka
- 申请人： Jun Hatakeyama , Yuji Harada , Yoshio Kawai , Masaru Sasago , Masayuki Endo , Shinji Kishimura , Kazuhiko Maeda , Haruhiko Komoriya , Kazuhiro Yamanaka
- 申请人地址： JP Tokyo JP Osaka JP Ube
- 专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.,Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.,Central Glass Co., Ltd.
- 当前专利权人： Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.,Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.,Central Glass Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： JP Tokyo JP Osaka JP Ube
- 代理机构： Birch, Stewart, Kolasch & Birch, LLP
- 优先权： JP2004-023724 20040130
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/30 ; C08F18/20 ; C08F118/00 ; C08F120/22
摘要：
A chemically amplified resist composition using an alternating copolymer of α-trifluoroacrylic acid with norbornene as a base polymer lends itself to ArF laser lithographic micropatterning and is improved in transparency, plasma etching resistance, and line edge roughness.
公开/授权文献
- US20050221221A1 Polymer, resist composition, and patterning process 公开/授权日：2005-10-06
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