发明授权
- 专利标题： Vertical capacitor apparatus, systems, and methods
- 专利标题（中）： 立式电容器，系统和方法
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申请号： US11082341申请日： 2005-03-17
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公开(公告)号： US07352557B2公开(公告)日： 2008-04-01
- 发明人: Hyunjun Kim , Jiangqi He , Joong-Ho Kim , Dong-Ho Han
- 申请人： Hyunjun Kim , Jiangqi He , Joong-Ho Kim , Dong-Ho Han
- 申请人地址： US CA Santa Clara
- 专利权人： Intel Corporation
- 当前专利权人： Intel Corporation
- 当前专利权人地址： US CA Santa Clara
- 代理机构： Schwegman, Lundberg & Woessner, P.A.
- 主分类号： H01G4/06
- IPC分类号： H01G4/06
摘要：
An apparatus and system, as well as fabrication methods therefor, may include a plurality of vertically-oriented plates separated by dielectric layers, wherein the vertically-oriented plates include a plurality of terminals coupled to a bottom side of the plates.
公开/授权文献
- US20050164465A1 Vertical capacitor apparatus, systems, and methods 公开/授权日：2005-07-28
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