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US07402261B2 Slurry compositions, methods of preparing slurry compositions, and methods of polishing an object using slurry compositions
失效
浆料组合物，制备浆料组合物的方法，以及使用浆料组合物抛光物体的方法
- 专利标题： Slurry compositions, methods of preparing slurry compositions, and methods of polishing an object using slurry compositions
- 专利标题（中）： 浆料组合物，制备浆料组合物的方法，以及使用浆料组合物抛光物体的方法
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申请号： US11205029申请日： 2005-08-17
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公开(公告)号： US07402261B2公开(公告)日： 2008-07-22
- 发明人: Jae-Hyun So , Sung-Taek Moon , Dong-Jun Lee , Nam-Soo Kim , Bong-Su Ahn , Kyoung-Moon Kang
- 申请人： Jae-Hyun So , Sung-Taek Moon , Dong-Jun Lee , Nam-Soo Kim , Bong-Su Ahn , Kyoung-Moon Kang
- 申请人地址： KR Suwon-si, Gyeonggi-do
- 专利权人： Samsung Electronics Co., Ltd.
- 当前专利权人： Samsung Electronics Co., Ltd.
- 当前专利权人地址： KR Suwon-si, Gyeonggi-do
- 代理机构： Volentine & Whitt, PLLC
- 优先权： KR10-2004-0064977 20040818
- 主分类号： C09K13/00
- IPC分类号： C09K13/00
摘要：
A slurry composition includes an acidic aqueous solution and one or both of, an amphoteric surfactant and a glycol compound. Examples of the amphoteric surfactant include a betaine compound and an amino acid compound, and examples of the amino acid compound include lysine, proline and arginine. Examples of the glycol compound include diethylene glycol, ethylene glycol and polyethylene glycol.
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