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US07410905B2 Method for fabricating thin film pattern, device and fabricating method therefor, method for fabricating liquid crystal display, liquid crystal display, method for fabricating active matrix substrate, electro-optical apparatus, and electrical apparatus
失效
制造薄膜图案的方法，其装置及其制造方法，液晶显示器的制造方法，液晶显示器，有源矩阵基板的制造方法，电光装置和电气设备
- 专利标题： Method for fabricating thin film pattern, device and fabricating method therefor, method for fabricating liquid crystal display, liquid crystal display, method for fabricating active matrix substrate, electro-optical apparatus, and electrical apparatus
- 专利标题（中）： 制造薄膜图案的方法，其装置及其制造方法，液晶显示器的制造方法，液晶显示器，有源矩阵基板的制造方法，电光装置和电气设备
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申请号： US10854668申请日： 2004-05-27
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公开(公告)号： US07410905B2公开(公告)日： 2008-08-12
- 发明人: Toshihiro Ushiyama , Toshimitsu Hirai , Toshiaki Mikoshiba , Hiroshi Kiguchi , Hironori Hasei
- 申请人： Toshihiro Ushiyama , Toshimitsu Hirai , Toshiaki Mikoshiba , Hiroshi Kiguchi , Hironori Hasei
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Seiko Epson Corporation
- 当前专利权人： Seiko Epson Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Oliff & Berridge, PLC
- 优先权： JP2003-155858 20030530; JP2003-155865 20030530; JP2003-155866 20030530; JP2003-155867 20030530; JP2004-103418 20040331
- 主分类号： H01L21/30
- IPC分类号： H01L21/30 ; B05D7/00 ; B41J2/01
摘要：
A method for fabricating a thin film pattern on a substrate, includes the steps of: forming a concave part on the substrate that conforms to the thin film pattern; and applying a function liquid into the concave part.
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