公开(公告)号：US20080272388A1

公开(公告)日：2008-11-06

申请号：US12216200

申请日：2008-07-01

申请人： Toshihiro Ushiyama ,  Toshimitsu Hirai ,  Toshiaki Mikoshiba ,  Hiroshi Kiguchi ,  Hironori Hasei

发明人： Toshihiro Ushiyama ,  Toshimitsu Hirai ,  Toshiaki Mikoshiba ,  Hiroshi Kiguchi ,  Hironori Hasei

IPC分类号： H01L33/00 ,  G02F1/1333

CPC分类号： H05K3/1258 ,  G02F1/13439 ,  G02F2001/136295 ,  H01L27/12 ,  H01L27/1292 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/0004 ,  H05K3/107 ,  H05K3/1241 ,  H05K2201/09036 ,  H05K2201/09909

摘要： A method for fabricating a thin film pattern on a substrate, includes the steps of: forming a concave part on the substrate that conforms to the thin film pattern; and applying a function liquid into the concave part.

公开(公告)号：US20050003640A1

公开(公告)日：2005-01-06

申请号：US10854668

申请日：2004-05-27

申请人： Toshihiro Ushiyama ,  Toshimitsu Hirai ,  Toshiaki Mikoshiba ,  Hiroshi Kiguchi ,  Hironori Hasei

发明人： Toshihiro Ushiyama ,  Toshimitsu Hirai ,  Toshiaki Mikoshiba ,  Hiroshi Kiguchi ,  Hironori Hasei

IPC分类号： G02F1/1343 ,  B05D1/26 ,  B05D5/12 ,  C30B1/00 ,  G02F1/133 ,  G02F1/1345 ,  G02F1/1362 ,  G02F1/1368 ,  H01L21/00 ,  H01L21/027 ,  H01L21/288 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/336 ,  H01L21/768 ,  H01L21/77 ,  H01L21/84 ,  H01L27/12 ,  H01L27/32 ,  H01L29/786 ,  H01L51/40 ,  H01L51/56 ,  H05K3/00 ,  H05K3/10 ,  H05K3/12

CPC分类号： H05K3/1258 ,  G02F1/13439 ,  G02F2001/136295 ,  H01L27/12 ,  H01L27/1292 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/0004 ,  H05K3/107 ,  H05K3/1241 ,  H05K2201/09036 ,  H05K2201/09909

摘要： A method for fabricating a thin film pattern on a substrate, includes the steps of: forming a concave part on the substrate that conforms to the thin film pattern; and applying a function liquid into the concave part.

摘要翻译： 一种在基板上制造薄膜图案的方法，包括以下步骤：在基板上形成符合薄膜图案的凹部; 以及将功能液施加到所述凹部中。

公开(公告)号：US07410905B2

公开(公告)日：2008-08-12

申请号：US10854668

申请日：2004-05-27

申请人： Toshihiro Ushiyama ,  Toshimitsu Hirai ,  Toshiaki Mikoshiba ,  Hiroshi Kiguchi ,  Hironori Hasei

发明人： Toshihiro Ushiyama ,  Toshimitsu Hirai ,  Toshiaki Mikoshiba ,  Hiroshi Kiguchi ,  Hironori Hasei

IPC分类号： H01L21/30 ,  B05D7/00 ,  B41J2/01

CPC分类号： H05K3/1258 ,  G02F1/13439 ,  G02F2001/136295 ,  H01L27/12 ,  H01L27/1292 ,  H01L27/3211 ,  H01L51/0004 ,  H05K3/107 ,  H05K3/1241 ,  H05K2201/09036 ,  H05K2201/09909

摘要： A method for fabricating a thin film pattern on a substrate, includes the steps of: forming a concave part on the substrate that conforms to the thin film pattern; and applying a function liquid into the concave part.

摘要翻译： 一种在基板上制造薄膜图案的方法，包括以下步骤：在基板上形成符合薄膜图案的凹部; 以及将功能液施加到所述凹部中。

公开(公告)号：US07582333B2

公开(公告)日：2009-09-01

申请号：US10797591

申请日：2004-03-10

申请人： Toshimitsu Hirai ,  Hironori Hasei

发明人： Toshimitsu Hirai ,  Hironori Hasei

IPC分类号： B05D1/02 ,  B05D1/36 ,  B05D5/06

CPC分类号： H01J9/02 ,  H01J2217/49207 ,  H01L51/0005 ,  H05K3/125 ,  H05K2203/1476

摘要： A pattern forming method is provided which discharges droplets of a liquid material on a substrate and forms a film pattern W. The method comprises a first step of forming a central pattern W1 of the film pattern W on the substrate, a second step of forming a first side pattern W2 with respect to the central pattern W1, and a third step of forming a second side pattern W3 with respect to the central part W1.

摘要翻译： 提供一种图案形成方法，其在衬底上排出液体材料的液滴并形成膜图案W.该方法包括在衬底上形成膜图案W的中心图案W1的第一步骤，形成第二步骤 相对于中心图案W1的第一侧图案W2，以及相对于中心部分W1形成第二侧面图案W3的第三步骤。

公开(公告)号：US06861377B1

公开(公告)日：2005-03-01

申请号：US10386447

申请日：2003-03-13

申请人： Toshimitsu Hirai ,  Hironori Hasei

发明人： Toshimitsu Hirai ,  Hironori Hasei

IPC分类号： H01L21/28 ,  H01L21/288 ,  H01L21/312 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L29/786 ,  H01Q1/22 ,  H01Q7/00 ,  H01Q9/27 ,  H01L21/31 ,  H01L21/469

CPC分类号： H01L21/02126 ,  H01L21/02263 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02307 ,  H01L21/0231 ,  H01L21/288 ,  H01L21/3121 ,  H01Q1/22 ,  H01Q1/2225 ,  H01Q7/00 ,  H01Q9/27

摘要： The invention provides a surface treatment method by which a substrate with desired uniform lyophilicity is obtained in order to enhance the formation of a film pattern by an ink-jet process; a surface-treated substrate obtained by the surface treatment; and a method of forming a film pattern.A surface of a substrate is subjected to lyophobic treatment by forming a self-assembled layer composed of organic molecules. The lyophobicity is then modified by ultraviolet irradiation or the like to obtain desired lyophobicity.

摘要翻译： 本发明提供一种表面处理方法，通过该方法获得具有所需均匀亲液性的基材，以通过喷墨方法增强膜图案的形成; 通过表面处理得到的经表面处理的基材; 以及形成膜图案的方法。通过形成由有机分子构成的自组装层，对基板的表面进行疏液处理。 然后通过紫外线照射等改变疏液性，以获得所需的疏液性。

公开(公告)号：US08197882B2

公开(公告)日：2012-06-12

申请号：US11636691

申请日：2006-12-08

申请人： Hironori Hasei ,  Toshimitsu Hirai

发明人： Hironori Hasei ,  Toshimitsu Hirai

IPC分类号： B05D1/32

CPC分类号： H05K3/125

摘要： A contact angle for a liquid on a substrate is set by a surface treatment process such that defects do not occur in a thin film pattern. In particular, the contact angle is set in a range of 15° to 45°. By doing this, it is possible to provide a device, a conductive thin film wiring device, and a method for forming a thin film pattern in which defects such as disconnections and short circuits can be prevented in a thin film pattern which is formed by an ink jet method.

摘要翻译： 通过表面处理工艺来设定基板上的液体的接触角，使得在薄膜图案中不发生缺陷。 特别地，接触角设定在15°〜45°的范围内。 通过这样做，可以提供一种器件，导电薄膜布线器件和用于形成薄膜图案的方法，其中可以防止诸如断开和短路的缺陷在由 喷墨法。

公开(公告)号：US07604922B2

公开(公告)日：2009-10-20

申请号：US11426453

申请日：2006-06-26

申请人： Toshimitsu Hirai ,  Hironori Hasei

发明人： Toshimitsu Hirai ,  Hironori Hasei

IPC分类号： H01J3/14 ,  H01L21/00

CPC分类号： H05K3/1208 ,  G01N2013/0208 ,  G02F1/13439 ,  G06K19/07749 ,  H01J2209/02 ,  H01J2217/49207 ,  H05K2203/1173

摘要： A process of providing a hydrophobic property to the surface of a plate, and a process of providing a hydrophilic property to the surface by irradiating energy light (radiation) on the surface of the plate, which is provided with the hydrophobic property are provided Variations in the accumulated illumination intensity of radiation on the surface of the plate are controlled to 20% or less.

摘要翻译： 提供了一种对板表面提供疏水性的方法，以及通过在提供疏水性的板的表面上照射能量光（辐射）而向表面提供亲水性的方法提供了变化 将板的表面上的辐射累积照射强度控制在20％以下。

公开(公告)号：US07364622B2

公开(公告)日：2008-04-29

申请号：US10382576

申请日：2003-03-07

申请人： Hironori Hasei ,  Toshimitsu Hirai

发明人： Hironori Hasei ,  Toshimitsu Hirai

IPC分类号： B05B13/02

CPC分类号： H01L21/76802 ,  B41J2/14233 ,  B41J2202/09 ,  H01L21/76826 ,  H01L27/1285 ,  H01L27/1292 ,  H01L27/3244 ,  H01L51/56 ,  H01L2251/5315

摘要： The invention provides an apparatus for fabricating a device, in which a high operation efficiency is maintained in a drying treatment for a multilayer-interconnection device. The device can also be fabricated inexpensively. An apparatus for fabricating a device has an inkjet unit that can dispose a liquid material on a substrate, and a preparatory dryer to blow a gas heated at a predetermined temperature to the substrate.

摘要翻译： 本发明提供一种用于制造装置的装置，其中在多层互连装置的干燥处理中维持高操作效率。 该装置也可以廉价地制造。 一种用于制造装置的装置具有能够将液体材料配置在基板上的喷墨单元和将预定温度加热的气体吹向基板的预备干燥机。

公开(公告)号：US20070082144A1

公开(公告)日：2007-04-12

申请号：US11636691

申请日：2006-12-08

申请人： Hironori Hasei ,  Toshimitsu Hirai

发明人： Hironori Hasei ,  Toshimitsu Hirai

IPC分类号： B05D1/32 ,  B05D3/00

CPC分类号： H05K3/125

摘要： A contact angle for a liquid on a substrate is set by a surface treatment process such that defects do not occur in a thin film pattern. In particular, the contact angle is set in a range of 15° to 45°. By doing this, it is possible to provide a device, a conductive thin film wiring device, and a method for forming a thin film pattern in which defects such as disconnections and short circuits can be prevented in a thin film pattern which is formed by an ink jet method.

摘要翻译： 通过表面处理工艺来设定基板上的液体的接触角，使得在薄膜图案中不发生缺陷。 特别地，接触角设定在15°〜45°的范围内。 通过这样做，可以提供一种器件，导电薄膜布线器件和用于形成薄膜图案的方法，其中可以防止诸如断开和短路的缺陷在由 喷墨法。

公开(公告)号：US07090966B2

公开(公告)日：2006-08-15

申请号：US10809201

申请日：2004-03-25

申请人： Toshimitsu Hirai ,  Hironori Hasei

发明人： Toshimitsu Hirai ,  Hironori Hasei

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： H05K3/1208 ,  G01N2013/0208 ,  G02F1/13439 ,  G06K19/07749 ,  H01J2209/02 ,  H01J2217/49207 ,  H05K2203/1173

摘要： A process of providing a hydrophobic property to the surface of a plate, and a process of providing a hydrophilic property to the surface by irradiating energy light (radiation) on the surface of the plate, which is provided with the hydrophobic property are provided. Variations in the accumulated illumination intensity of radiation on the surface of the plate are controlled to 20% or less.

摘要翻译： 提供了向板的表面提供疏水性的方法，以及通过在提供有疏水性的板的表面上照射能量光（辐射）而向表面提供亲水性的方法。 将板表面上的辐射累积照射强度的变化控制在20％以下。