发明授权
- 专利标题： Projection optical system and method for photolithography and exposure apparatus and method using same
- 专利标题（中）： 投影光学系统及光刻法及曝光装置及其使用方法
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申请号： US11907679申请日： 2007-10-16
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公开(公告)号： US07551362B2公开(公告)日： 2009-06-23
- 发明人: Yasuhiro Omura , Hironori Ikezawa
- 申请人： Yasuhiro Omura , Hironori Ikezawa
- 申请人地址： JP Tokyo
- 专利权人： Nikon Corporation
- 当前专利权人： Nikon Corporation
- 当前专利权人地址： JP Tokyo
- 代理机构： Oliff & Berridge, PLC
- 优先权： JP2002-242925 20020823; GB0311470.9 20030519
- 主分类号： G02B3/00
- IPC分类号： G02B3/00 ; G02B17/00
摘要：
An immersion optical system includes a liquid immerged optical element having an optical surface which is contactable with a liquid, a convex surface, and an optical axis. A side surface of the liquid immerged optical element is inclined with respect to the optical axis.
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