发明授权
- 专利标题： Method of forming a substrate for use in calibrating a metrology tool, calibration substrate and metrology tool calibration method
- 专利标题（中）： 形成用于校准计量工具，校准基板和计量工具校准方法的基板的方法
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申请号： US11727648申请日： 2007-03-27
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公开(公告)号： US07605907B2公开(公告)日： 2009-10-20
- 发明人: Hugo Augustinus Joseph Cramer , Antoine Gaston Marie Kiers , Gerardus Maria Johannes Wijnand Janssen
- 申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer , Antoine Gaston Marie Kiers , Gerardus Maria Johannes Wijnand Janssen
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Sterne, Kessler, Goldstein & Fox P.L.L.C
- 主分类号： G03B27/42
- IPC分类号： G03B27/42 ; G03B27/32
摘要：
The present invention provides a method for forming a substrate for use in calibrating a metrology tool in order to compensate for orientation-dependent variations within the metrology tool.
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