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1.发明授权Method of forming a substrate for use in calibrating a metrology tool, calibration substrate and metrology tool calibration method 有权形成用于校准计量工具，校准基板和计量工具校准方法的基板的方法公开(公告)号：US07605907B2
公开(公告)日：2009-10-20
申请号：US11727648
申请日：2007-03-27
申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer , Antoine Gaston Marie Kiers , Gerardus Maria Johannes Wijnand Janssen
发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer , Antoine Gaston Marie Kiers , Gerardus Maria Johannes Wijnand Janssen
CPC分类号： G03F7/70425 , G03F7/70516 , G03F7/70616
摘要： The present invention provides a method for forming a substrate for use in calibrating a metrology tool in order to compensate for orientation-dependent variations within the metrology tool.
摘要翻译： 本发明提供了一种用于形成用于校准计量工具的基板的方法，以便补偿计量工具内的取向相关变化。
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2.发明申请Method of forming a substrate for use in calibrating a metrology tool, calibration substrate and metrology tool calibration method 有权形成用于校准计量工具，校准基板和计量工具校准方法的基板的方法公开(公告)号：US20080239277A1
公开(公告)日：2008-10-02
申请号：US11727648
申请日：2007-03-27
申请人： Hugo Augustinus Joseph Cramer , Antoine Gaston Marie Kiers , Gerardus Maria Johannes Wijnand Janssen
发明人： Hugo Augustinus Joseph Cramer , Antoine Gaston Marie Kiers , Gerardus Maria Johannes Wijnand Janssen
IPC分类号： G03B27/42
CPC分类号： G03F7/70425 , G03F7/70516 , G03F7/70616
摘要： The present invention provides a method for forming a substrate for use in calibrating a metrology tool in order to compensate for orientation-dependent variations within the metrology tool.
摘要翻译： 本发明提供了一种用于形成用于校准计量工具的基板的方法，以便补偿计量工具内的取向相关变化。
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