发明授权
US07656506B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
有权
利用基板处理器的平版印刷设备和器件制造方法
- 专利标题： Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a substrate handler
- 专利标题（中）： 利用基板处理器的平版印刷设备和器件制造方法
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申请号： US11320494申请日： 2005-12-29
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公开(公告)号： US07656506B2公开(公告)日： 2010-02-02
- 发明人: Hernes Jacobs , Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis , Harmen Klaas Van Der Schoot , Petrus Matthijs Henricus Vosters
- 申请人： Hernes Jacobs , Bernardus Antonius Johannes Luttikhuis , Harmen Klaas Van Der Schoot , Petrus Matthijs Henricus Vosters
- 申请人地址： NL Veldhoven
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： NL Veldhoven
- 代理机构： Sterne, Kessler, Goldstein & Fox P.L.L.C
- 主分类号： G03B27/58
- IPC分类号： G03B27/58 ; G03B27/42
摘要：
A substrate handler for moving a substrate relative to a substrate table of a lithographic apparatus. The substrate handler comprises at least one support surface or platform adapted to carry a plurality of independent substrates simultaneously. The substrate handler adapted to load substrates onto and unload substrates from the substrate table before and after exposure.
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