发明授权
- 专利标题： Tantalum and niobium compounds
- 专利标题（中）： 钽和铌化合物
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申请号： US12249463申请日： 2008-10-10
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公开(公告)号： US07667038B2公开(公告)日： 2010-02-23
- 发明人: Knud Reuter , Daniel Gaess , Jörg Sundermeyer
- 申请人： Knud Reuter , Daniel Gaess , Jörg Sundermeyer
- 申请人地址： DE Goslar
- 专利权人： H. C. Starck GmbH
- 当前专利权人： H. C. Starck GmbH
- 当前专利权人地址： DE Goslar
- 代理机构： Connolly Bove Lodge & Hutz LLP
- 优先权： DE102007049015 20071011
- 主分类号： C07F9/00
- IPC分类号： C07F9/00 ; C07D333/02
摘要：
The present invention relates to specific, novel tantalum and niobium compounds which can serve as starting materials for the preparation of chemical vapour deposition (CVD) precursors.
公开/授权文献
- US20090099361A1 NOVEL TANTALUM AND NIOBIUM COMPOUNDS 公开/授权日：2009-04-16
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